삼성전자, 첫 관문 뚫은 2나노 공정, 수율·수익성·고객사 확대 ‘과제’
- 등록일 2026-04-27
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삼성전자의 2나노 공정은 단순히 선폭을 더 줄인 미세화 기술이 아니라 전력 효율 향상에 초점을 맞추고 있다. 이를 위해 삼성전자는 기존 핀펫(FinFET)보다 한 단계 진화한 게이트올어라운드(GAA) 구조를 도입했다.
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삼성전자의 2나노 공정은 단순히 선폭을 더 줄인 미세화 기술이 아니라 전력 효율 향상에 초점을 맞추고 있다. 이를 위해 삼성전자는 기존 핀펫(FinFET)보다 한 단계 진화한 게이트올어라운드(GAA) 구조를 도입했다.